Фоторезист пленочный
Фоторезист сухой пленочный
Предназначен для применения в радиоэлектронной промышленности, в частности, для формирования электропроводящих слоёв печатных плат по негативной и позитивной технологии, для реализации фотолитографических процессов с последующим химическим травлением и гальваническим осаждением металлов в производстве интегральных схем, электроформованных сит.
Производится методом полива на лавсановую основу с последующим ламинированием полиэтиленовой пленкой. Поставляется в рулонах шириной 300 мм длиной по 70 м.
Фоторезист "Спектр-ПФ", сохраняя все достоинства известных аналогов, имеет ряд преимуществ, которые позволят вам получать вертикальный профиль проявления практически при любых толщинах слоев с высокой разрешающей способностью, не зависящей от мощности источника УФ-излучения (возможность формирования рельефа с размером 40 мкм с использованием УФ - ламп мощностью > 250 Вт).
Использование сухого плёночного фоторезиста позволит вам достигнуть высокой технологической устойчивости процесса.
Технические характеристики
Наименование показателя | Значение |
Толщина светочувствительного слоя, мкм | 25, 30, 40, 45, 50 |
Толщина лавсановой основы, мкм | 20 |
Толщина полиэтиленовой пленки, мкм | 40 |
Эффективное время экспонирования от источника ДРТГ -3000 в области 320-420 нм, сек | 60 - 120 |
Разрешающая способность, мкм | 60 - 80 |
Стойкость экспонированного слоя в растворах с рН до 10 при Т=18-28°С, мин. | 1 и более |
Фоторезист стоек при гальваническом осаждении металлов из электролита с рН менее 7.
Рекомендации по применению:
Нанесение фоторезиста проводится на стандартном оборудовании - ламинаторах различного типа, в соответствии с инструкциями по их использованию.
Экспонирование проводится на установках с ультрафиолетовым источником света любой мощности. После экспонирования заготовки могут выдерживаться до 30 мин. без ухудшения качества проявления.
Проявление проводится в 1-2% растворе кальцинированной соды при температуре 18-28°С с последующей промывкой холодной водой, сушкой сжатым воздухом и добавочной сушкой в шкафу при температуре 70-80°С в течение 15-20 мин.
Удаление производится в 5-20% водном растворе гидроксида калия, гидроксида натрия или 3-5% водным раствором аммиака.